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  Electron-irradiation-induced amorphization in Mo/Si nano- multilayer material

Shioya, E., Suda, T., Watanabe, S., Ohnuki, S., Ishino, M., Yoda, O., et al. (2002). Electron-irradiation-induced amorphization in Mo/Si nano- multilayer material. Materials Transactions, 43(4), 650-653.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-31A9-4 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-31AB-F
Genre: Zeitschriftenartikel
Alternativer Titel : Mater. Trans.

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Shioya, E.1, Autor
Suda, T.1, Autor
Watanabe, S.1, Autor
Ohnuki, S.1, Autor
Ishino, M.1, Autor
Yoda, O.1, Autor
Abe, H.1, Autor
Phillipp, F.2, Autor           
Affiliations:
1Hokkaido Univ, Grad Sch Engn, Mat Sci Div, Sapporo, Hokkaido 0608628, Japan; Japan Atom Energy Res Inst, Kansai Res Estab, Kizu 6190215, Japan; Japan Atom Energy Res Inst, Takasaki Res Estab, Takasaki, Gumma 3701292, Japan; Japan Atom Energy Res Inst, Takasaki Res Estab, D-70569 Stuttgart, Germany;, ou_persistent22              
2Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, DE, ou_1497657              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Rühle; ZWE Hochspannungs-Mikroskopie; 66-ru_2002; multilayer; interface; electron-irradiation; amorphization; high-resolution electron microscope
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2002-04
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 6818
ISI: 000175971900010
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Materials Transactions
  Alternativer Titel : Mater. Trans.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 43 (4) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 650 - 653 Identifikator: ISSN: 1345-9678