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  Determination of the interdiffusion coefficient for Si/Al multilayers by auger electron spectroscopical sputter depth profiling

Wang, J. Y., Zalar, A., Zhao, Y. H., & Mittemeijer, E. J. (2003). Determination of the interdiffusion coefficient for Si/Al multilayers by auger electron spectroscopical sputter depth profiling. Thin Solid Films, 433, 92-96.

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314.pdf (Zusammenfassung), 68KB
 
Datei-Permalink:
-
Name:
314.pdf
Beschreibung:
-
OA-Status:
Sichtbarkeit:
Eingeschränkt (Max Planck Institute for Intelligent Systems, MSMT; )
MIME-Typ / Prüfsumme:
application/pdf
Technische Metadaten:
Copyright Datum:
-
Copyright Info:
eDoc_access: INSTITUT
Lizenz:
-

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Wang, J. Y.1, Autor           
Zalar, A., Autor
Zhao, Y. H.1, Autor           
Mittemeijer, E. J.1, 2, Autor           
Affiliations:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              
2Universität Stuttgart, Institut für Materialwissenschaft, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Intelligente Systeme; Abt. Mittemeijer;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2003
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 47155
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Thin Solid Films
Genre der Quelle: Zeitschrift
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Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 433 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 92 - 96 Identifikator: -