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  AES depth profiling of thermally treated Al/Si thin-film structures

Zalar, A., Wang, J., Zhao, Y., Mittemeijer, E., & Panjan, P. (2003). AES depth profiling of thermally treated Al/Si thin-film structures. Vacuum, 71, 11-17.

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311.pdf (Zusammenfassung), 56KB
 
Datei-Permalink:
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311.pdf
Beschreibung:
-
OA-Status:
Sichtbarkeit:
Eingeschränkt (Max Planck Institute for Intelligent Systems, MSMT; )
MIME-Typ / Prüfsumme:
application/pdf
Technische Metadaten:
Copyright Datum:
-
Copyright Info:
eDoc_access: INSTITUT
Lizenz:
-

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Zalar, A., Autor
Wang, J.Y.1, Autor           
Zhao, Y.H.1, Autor           
Mittemeijer, E.J.1, 2, Autor           
Panjan, P., Autor
Affiliations:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              
2Universität Stuttgart, Institut für Materialwissenschaft, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2003
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 47144
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Vacuum
Genre der Quelle: Zeitschrift
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Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 71 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 11 - 17 Identifikator: -