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  Stress and Microstructure of Sputter Deposited Thin Copper and Niobium Films

Okolo, B. C. (2003). Stress and Microstructure of Sputter Deposited Thin Copper and Niobium Films. PhD Thesis, Universität Stuttgart, Stuttgart.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2CD1-D Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2CD2-B
Genre: Hochschulschrift

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Okolo, B. C.1, Autor           
Affiliations:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2003-04-04
 Publikationsstatus: Angenommen
 Seiten: 93 S.
 Ort, Verlag, Ausgabe: Stuttgart : Universität Stuttgart
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 60087
URI: http://elib.uni-stuttgart.de/opus/volltexte/2003/1413/
 Art des Abschluß: Doktorarbeit

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle

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