Sputter-depth profiling for thin-film analysis

Hofmann, S.

Sputter-depth profiling for thin-film analysis

Hofmann, S. (2004). Sputter-depth profiling for thin-film analysis. Philosophical of the Transactions Royal Society of London A, 362, 55-75.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-29DD-B 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-29DE-9

資料種別: 学術論文

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eDoc_access: INSTITUT

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Hofmann, S.¹, 著者

所属:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer;

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言語: eng - English

日付: 出版: 2004

出版の状態: 出版

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識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 124094

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出版物名: Philosophical of the Transactions Royal Society of London A

種別: 学術雑誌

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ページ: - 巻号: 362 通巻号: - 開始・終了ページ: 55 - 75 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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