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  Microstructural changes in amorphous Si/crystalline Al thin bilayer films upon annealing

Zhao, Y. H., Wang, J. Y., & Mittemeijer, E. J. (2004). Microstructural changes in amorphous Si/crystalline Al thin bilayer films upon annealing. Applied Phsics A, 79(3), 681-690.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-28E4-1 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-28E5-0
Genre: Zeitschriftenartikel
Alternativer Titel : Appl. Phys. A

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Zhao, Y. H.1, Autor           
Wang, J. Y.1, Autor           
Mittemeijer, E. J.1, 2, Autor           
Affiliations:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              
2Universität Stuttgart, Institut für Materialwissenschaft, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2004-08
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 213940
ISI: 000221675000046
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Applied Phsics A
  Alternativer Titel : Appl. Phys. A
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 79 (3) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 681 - 690 Identifikator: ISSN: 0947-8396