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  Pipe-diffusion ripening of Si precipitates in Al-0.5% Cu-1%Si thin films

Legros, M., Kaouache, B., Gergaud, P., Thomas, O., Dehm, G., Balk, T. J., et al. (2005). Pipe-diffusion ripening of Si precipitates in Al-0.5% Cu-1%Si thin films. Philosophical Magazine, 85, 3541-3552.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2854-7 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2855-5
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Legros, M.1, Autor
Kaouache, B.1, Autor
Gergaud, P.1, Autor
Thomas, O.1, Autor
Dehm, G.2, Autor           
Balk, T. J.2, Autor           
Arzt, E.2, 3, Autor           
Affiliations:
1CNRS, CEMES, Toulouse, F-31055 France; ENSAM, LPMM, Metz, F-57078 France; Univ. Stuttgart, Institut für Metallkunde, Stuttgart; Univ. Kentucky, Dept. Chem. & Mat. Engn.,Lexington, KY 40506 USA, ou_persistent22              
2Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655              
3Universität Stuttgart, Institut für Metallkunde, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Arzt;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2005
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 242444
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Philosophical Magazine
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 85 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 3541 - 3552 Identifikator: -