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  Efficient formation and cleavage of disilanes by potassium-graphite. Silylation with silyl metal reagents

Fürstner, A., & Weidmann, H. (1988). Efficient formation and cleavage of disilanes by potassium-graphite. Silylation with silyl metal reagents. Journal of Organometallic Chemistry, 354(1), 15-21. doi:10.1016/0022-328X(88)80634-X.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Fürstner, Alois1, Autor           
Weidmann, Hans1, Autor
Affiliations:
1Institute of Organic Chemistry, Technical University Graz, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: -
 Zusammenfassung: Potassium-graphite laminate (C8K) very rapidly forms disilanes from chlorosilanes and then rapidly cleaves the disilanes to give silyl potassium reagents which can be converted into potassium silyl cuprates, -manganates, and -vanadates that are useful for nucleophilic substitution and addition reactions.

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 1988-04-081988-10-11
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: 7
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: DOI: 10.1016/0022-328X(88)80634-X
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Organometallic Chemistry
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Amsterdam : Elsevier
Seiten: 7 Band / Heft: 354 (1) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 15 - 21 Identifikator: ISSN: 0022-328X
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925622228
DOI: 10.1016/0022-328X(88)80634-X