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  Influence of Ar, Kr, and Xe layers on the energies and lifetimes of image-potential states on Cu(100)

Berthold, W., Rebentrost, F., Feulner, P., & Höfer, U. (2004). Influence of Ar, Kr, and Xe layers on the energies and lifetimes of image-potential states on Cu(100). Applied Physics A: Materials Science A& Processing, 78(2), 131-140. doi:10.1007/s00339-003-2310-6.

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2762.pdf (Verlagsversion), 2MB
 
Datei-Permalink:
-
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2762.pdf
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-
OA-Status:
Sichtbarkeit:
Eingeschränkt (Max Planck Institute of Quantum Optics, MGQO; )
MIME-Typ / Prüfsumme:
application/pdf
Technische Metadaten:
Copyright Datum:
-
Copyright Info:
eDoc_access: INSTITUT
Lizenz:
-

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Berthold, W., Autor
Rebentrost, Frank1, Autor           
Feulner, P., Autor
Höfer, Ulrich1, Autor           
Affiliations:
1Laser Chemistry, Max Planck Institute of Quantum Optics, Max Planck Society, ou_1445565              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2004-01
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 213624
URI: http://www.springerlink.com/link.asp?id=9ch2xhtmcg1l6pe1
DOI: 10.1007/s00339-003-2310-6
Anderer: 2762
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Applied Physics A: Materials Science A& Processing
  Alternativer Titel : Appl. Phys. A
Genre der Quelle: Zeitschrift
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Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 78 (2) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 131 - 140 Identifikator: -