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  A study on the metal-organic CVD of pure copper films from low cost copper(II) dialkylamino-2-propoxides: Tuning the thermal properties of the precursor by small variations of the ligand

Becker, R., Devi, A., Weiss, J., Weckenmann, U., Winter, M., Kiener, C., et al. (2003). A study on the metal-organic CVD of pure copper films from low cost copper(II) dialkylamino-2-propoxides: Tuning the thermal properties of the precursor by small variations of the ligand. Chemical Vapor Deposition, 9(3), 149-156. doi:10.1002/cvde.200306236.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-987B-F Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0023-C727-C
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Becker, R.1, Autor
Devi, A.1, Autor
Weiss, J.1, Autor
Weckenmann, U.1, Autor
Winter, M.2, Autor           
Kiener, C.3, Autor           
Becker, H. W.1, Autor
Fischer, R. A.1, Autor
Affiliations:
1Ruhr Univ Bochum, Lehrstuhl Anorgan Chem 2, D-44780 Bochum, Germany.; Ruhr Univ Bochum, Lehrstuhl Expt Phys 3, D-44780 Bochum, Germany., ou_persistent22              
2Research Department Fink, Max-Planck-Institut für Kohlenforschung, Max Planck Society, ou_1445583              
3Research Department Schüth, Max-Planck-Institut für Kohlenforschung, Max Planck Society, ou_1445589              

Inhalt

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Schlagwörter: amino alkoxides, copper, MOCVD, thermal analysis, thin films
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2003-06
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 116962
DOI: 10.1002/cvde.200306236
ISI: 000183972400007
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Chemical Vapor Deposition
  Alternativer Titel : Chem. Vapor Depos.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 9 (3) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 149 - 156 Identifikator: ISSN: 0948-1907