Liquid precursor 2-step aluminum thin film deposition on KrF laser patterned 
palladium.

Lehmann, O.; Stuke, M.

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Liquid precursor 2-step aluminum thin film deposition on KrF laser patterned palladium.

Lehmann, O., & Stuke, M. (1992). Liquid precursor 2-step aluminum thin film deposition on KrF laser patterned palladium. Applied Physics Letters, 61(17), 2027-2029.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0013-08C1-E 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-DE88-3

資料種別: 学術論文

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Lehmann, O.¹, 著者
Stuke, M.¹, 著者

所属:
1Research Group of Laser Chemical Processing, MPI for biophysical chemistry, Max Planck Society, ou_578609

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言語: eng - English

日付: 出版: 1992-10-26

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 281390
ISI: A1992JV04100010

学位: -

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出版物名: Applied Physics Letters

出版物の別名 : Appl. Phys. Lett.

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 61 (17) 通巻号: - 開始・終了ページ: 2027 - 2029 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 0003-6951

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