Deutsch
 
Hilfe Datenschutzhinweis Impressum
  DetailsucheBrowse

Datensatz

DATENSATZ AKTIONENEXPORT
 
 
DownloadE-Mail
 Lokale TagsFreigabegeschichteDetailsÜbersicht
  Nanoscale stability of two- and three-dimensional defects in Cu/Ag–Mo thin films

Csiszár, G., Makvandi, A., & Mittemeijer, E. J. (2017). Nanoscale stability of two- and three-dimensional defects in Cu/Ag–Mo thin films. Journal of Applied Crystallography, 50(1), 152-171. doi:10.1107/S1600576716019129.

Item is

 

einblenden: alle ausblenden: alle

Basisdaten

einblenden: ausblenden:
Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-002E-093A-0 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0003-B492-C
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

einblenden:

Urheber

einblenden:
ausblenden:
 Urheber:
Csiszár, Gábor1, Autor           
Makvandi, Ardavan2, Autor
Mittemeijer, Eric Jan1, 2, Autor           
Affiliations:
1Emeriti and Others, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497650              
2Institut für Materialwissenschaften, Universität Stuttgart, Stuttgart, ou_persistent22              

Inhalt

einblenden:
ausblenden:
Schlagwörter: Emeriti and Others
 Zusammenfassung: -

Details

einblenden:
ausblenden:
Sprache(n): eng - English
 Datum: 2017-02-01
 Publikationsstatus: Online veröffentlicht
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: DOI: 10.1107/S1600576716019129
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

einblenden:

Entscheidung

einblenden:

Projektinformation

einblenden:

Quelle 1

einblenden:
ausblenden:
Titel: Journal of Applied Crystallography
  Kurztitel : J. Appl. Cryst.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Oxford, England : Blackwell Publishing on behalf of the International Union of Crystallography
Seiten: - Band / Heft: 50 (1) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 152 - 171 Identifikator: ISSN: 0021-8898
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925410812