On the structural development during ultrathin amorphous Al2O3 film growth on 
Al(111) and Al(100) surfaces by thermal oxidation

Flötotto, David; Wang, Zumin; Mittemeijer, Eric Jan

doi:10.1016/j.susc.2014.11.008

On the structural development during ultrathin amorphous Al₂O₃ film growth on Al(111) and Al(100) surfaces by thermal oxidation

Flötotto, D., Wang, Z., & Mittemeijer, E. J. (2015). On the structural development during ultrathin amorphous Al₂O₃ film growth on Al(111) and Al(100) surfaces by thermal oxidation. Surface Science, 633, 1-7. doi:10.1016/j.susc.2014.11.008.

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資料種別: 学術論文

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Flötotto, David¹, 著者
Wang, Zumin¹, 著者
Mittemeijer, Eric Jan^{1, 2}, 著者

所属:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644
2Institut für Materialwissenschaft, Universität Stuttgart, Heisenbergstraße 3, 70569 Stuttgart, Germany, ou_persistent22

内容説明

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キーワード: Abt. Mittemeijer

要旨: -

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言語: eng - English

日付: オンライン出版: 2015-03出版: 2015

出版の状態: 出版

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目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: DOI: 10.1016/j.susc.2014.11.008

学位: -

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出版物名: Surface Science

省略形 : Surf. Sci.

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: Amsterdam : Elsevier

ページ: - 巻号: 633 通巻号: - 開始・終了ページ: 1 - 7 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: その他: 0039-6028
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/0039-6028

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