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  Investigation of the Mn3-δ Ga/MgO interface for magnetic tunneling junctions

ViolBarbosa, C. E., Ouardi, S., Kubota, T., Mizukami, S., Fecher, G. H., Miyazaki, T., Kozina, X., Ikenaga, E., & Felser, C. (2014). Investigation of the Mn3-δ Ga/MgO interface for magnetic tunneling junctions. Journal of Applied Physics, 116(3):, pp. 1-4. doi:10.1063/1.4890582.

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基本情報

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資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
ViolBarbosa, C. E.1, 著者           
Ouardi, S.2, 著者           
Kubota, T.3, 著者
Mizukami, S.3, 著者
Fecher, G. H.4, 著者           
Miyazaki, T.3, 著者
Kozina, X.3, 著者
Ikenaga, E.3, 著者
Felser, C.5, 著者           
所属:
1Inorganic Chemistry, Max Planck Institute for Chemical Physics of Solids, Max Planck Society, ou_1863425              
2Siham Ouardi, Inorganic Chemistry, Max Planck Institute for Chemical Physics of Solids, Max Planck Society, ou_1863439              
3external, ou_persistent22              
4Gerhard Fecher, Inorganic Chemistry, Max Planck Institute for Chemical Physics of Solids, Max Planck Society, ou_1863431              
5Claudia Felser, Inorganic Chemistry, Max Planck Institute for Chemical Physics of Solids, Max Planck Society, ou_1863429              

内容説明

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キーワード: -
 要旨: The Mn3Ga Heusler compound and related alloys are the most promising materials for the realization of spin-transfer-torque magnetoresistive memories. Mn-Ga films exhibits perpendicular magnetic anisotropy and high spin polarization and can be used to improve the performance of MgO-based magneto tunneling junctions. The interface between Mn-Ga and MgO films were chemically characterized by hard x-ray photoelectron spectroscopy. The experiment indicated the formation of Ga-O bonds at the interface and evidenced changes in the local environment of Mn atoms in the proximity of the MgO film. We show that the deposition of few monoatomic layers of Mg on top of Mn-Ga film, before the MgO deposition, strongly suppresses the oxidation of gallium. (C) 2014 AIP Publishing LLC.

資料詳細

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 日付: 2014-07-21
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: -
 識別子(DOI, ISBNなど): ISI: 000340710500086
DOI: 10.1063/1.4890582
 学位: -

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出版物 1

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出版物名: Journal of Applied Physics
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: New York, NY : AIP Publishing
ページ: - 巻号: 116 (3) 通巻号: 034508 開始・終了ページ: 1 - 4 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): ISSN: 0021-8979
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/991042723401880