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  Effect of chemical etching on poly(methyl methacrylate) irradiated with slow highly charged ions

Ritter, R., Wilhelm, R. A., Ginzel, R., Schadauer, P., Heller, R., Rupp, W., Crespo López-Urrutia, J. R., Facsko, S., & Aumayr, F. (2013). Effect of chemical etching on poly(methyl methacrylate) irradiated with slow highly charged ions. Physica Scripta T, 156:, 1-3. doi:10.1088/0031-8949/2013/T156/014065.

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基本情報

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0014-BB17-9 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0014-BB19-5
資料種別: 会議論文

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作成者

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 作成者:
Ritter, Robert, 著者
Wilhelm, Richard A, 著者
Ginzel, Rainer1, 著者           
Schadauer, Philip, 著者
Heller, René, 著者
Rupp, Werner, 著者
Crespo López-Urrutia, José R.1, 著者           
Facsko, Stefan, 著者
Aumayr, Friedrich, 著者
所属:
1Division Prof. Dr. Joachim H. Ullrich, MPI for Nuclear Physics, Max Planck Society, ou_904547              

内容説明

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資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2013-09-23
 出版の状態: オンラインで出版済み
 ページ: 6
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子（DOI, ISBNなど）: DOI: 10.1088/0031-8949/2013/T156/014065
 学位: -

関連イベント

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イベント名: 16th International Conference on the Physics of Highly Charged Ions
開催地: Heidelberg
開始日・終了日: 2012-09-02 - 2012-09-07

訴訟

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Project information

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出版物 1

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出版物名: Physica Scripta T
  その他 : Phys.Scr.T
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: Stockholm : Royal Swedish Academy of Sciences
ページ: - 巻号: 156 通巻号: 014065 開始・終了ページ: 1 - 3 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 0281-1847
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/110976549881403