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  The effect of magnetocrystalline anisotropy on the domain structure of patterned Fe2CrSi Heusler alloy thin films

Miyawaki, T., Foerster, M., Finizio, S., Vaz, C. A. F., Mawass, M.-A., Inagaki, K., Fukatani, N., Le Guyader, L., Nolting, F., Ueda, K., Asano, H., & Kläui, M. (2013). The effect of magnetocrystalline anisotropy on the domain structure of patterned Fe2CrSi Heusler alloy thin films. Journal of Applied Physcis, 114(7):. doi:10.1063/1.4818800.

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基本情報

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0014-B346-1 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0014-B38C-5
資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Miyawaki, T.1, 著者
Foerster, M.2, 著者
Finizio, S.2, 著者
Vaz, C. A. F.2, 3, 著者
Mawass, M.-A.2, 4, 著者           
Inagaki, K.1, 著者
Fukatani, N.1, 著者
Le Guyader, L.5, 著者
Nolting, F.5, 著者
Ueda, K.1, 著者
Asano, H.1, 著者
Kläui, M.2, 著者
所属:
1Department of Crystalline Materials Science, Nagoya University, Nagoya 464-8603, Japan, ou_persistent22              
2Institut für Physik, Johannes Gutenberg-Universität Mainz, 55099 Mainz, Germany, ou_persistent22              
3SwissFEL, Paul Scherrer Institut, 5232 Villigen PSI, Switzerland, ou_persistent22              
4Dept. Modern Magnetic Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497648              
5Swiss Light Source, Paul Scherrer Institut, 5232 Villigen PSI, Switzerland, ou_persistent22              

内容説明

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キーワード: Abt. Schütz
 要旨: -

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2013
 出版の状態: 出版
 ページ: 5
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子（DOI, ISBNなど）: DOI: 10.1063/1.4818800
 学位: -

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訴訟

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Project information

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出版物 1

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出版物名: Journal of Applied Physcis
  省略形 : J. Appl. Phys.
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: New York, NY : American Institute of Physics
ページ: - 巻号: 114 (7) 通巻号: 073905 開始・終了ページ: - 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 0021-8979
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/991042723401880_1