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  Visualizing Atomic-Scale Negative Differential Resistance in Bilayer Graphene

Kim, K. S., Kim, T.-H., Walter, A. L., Seyller, T., Yeom, H. W., Rotenberg, E., & Bostwick, A. (2013). Visualizing Atomic-Scale Negative Differential Resistance in Bilayer Graphene. Physical Review Letters, 110(3):. doi:10.1103/PhysRevLett.110.036804.

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基本情報

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資料種別: 学術論文

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:
PhysRevLett.110.036804.pdf (出版社版), 2MB
ファイルのパーマリンク:
https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0013-B2D7-5
ファイル名:
PhysRevLett.110.036804.pdf
説明:
-
OA-Status:
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公開
MIMEタイプ / チェックサム:
application/pdf / [MD5]
技術的なメタデータ:
著作権日付:
2013
著作権情報:
APS
CCライセンス:
-

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作成者

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 作成者:
Kim, Keun Su1, 著者
Kim, Tae-Hwan2, 著者
Walter, Andrew L.3, 著者           
Seyller, Thomas4, 著者
Yeom, Han Woong2, 著者
Rotenberg, Eli1, 著者
Bostwick, Aaron1, 著者
所属:
1Advanced Light Source, E. O. Lawrence Berkeley National Laboratory, Berkeley, California 94720, USA, ou_persistent22              
2Center for Low Dimensional Electronic Symmetry and Department of Physics, Pohang University of Science and Technology, Pohang 790-784, Korea, ou_persistent22              
3Physical Chemistry, Fritz Haber Institute, Max Planck Society, ou_634546              
4Lehrstuhl für Technische Physik, Universität Erlangen-Nürnberg, Erwin-Rommel-Strasse 1, 91058 Erlangen, Germany, ou_persistent22              

内容説明

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資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2012-08-162013-01-182013-01-182013-01-18
 出版の状態: 出版
 ページ: 5
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子(DOI, ISBNなど): DOI: 10.1103/PhysRevLett.110.036804
 学位: -

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出版物 1

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出版物名: Physical Review Letters
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: Woodbury, N.Y., etc. : American Physical Society.
ページ: - 巻号: 110 (3) 通巻号: 036804 開始・終了ページ: - 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): ISSN: 0031-9007
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925433406_1