TiO2 and HfO2 in electrolyte-oxide-silicon configuration for applications in 
bioelectronics

Wallrapp, F.; Fromherz, P.

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TiO2 and HfO2 in electrolyte-oxide-silicon configuration for applications in bioelectronics

Wallrapp, F., & Fromherz, P. (2006). TiO2 and HfO2 in electrolyte-oxide-silicon configuration for applications in bioelectronics. Journal of Applied Physics, 99(11):.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-62C9-8 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-62CA-6

資料種別: 学術論文

その他のタイトル : J. Appl. Phys.

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Wallrapp, F.¹, 著者
Fromherz, P.¹, 著者

所属:
1Fromherz, Peter / Membrane and Neurophysics, Max Planck Institute of Biochemistry, Max Planck Society, ou_1565146

内容説明

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言語: eng - English

日付: オンライン出版: 2006-06-01

出版の状態: オンラインで出版済み

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 287994
ISI: 000238314900072

学位: -

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出版物名: Journal of Applied Physics

出版物の別名 : J. Appl. Phys.

種別: 学術雑誌

著者・編者:

所属:

出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 99 (11) 通巻号: 114103 開始・終了ページ: - 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 0021-8979

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