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  Tailoring the stress-depth profile in thin films; the case of γ’-Fe4N1-x

Wohlschlögel, M., Welzel, U., & Mittemeijer, E. J. (2011). Tailoring the stress-depth profile in thin films; the case of γ’-Fe4N1-x. Thin Solid Films, 520, 287-293. doi:10.1016/j.tsf.2011.07.070.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-4EAE-2 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-4EAF-F
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Wohlschlögel, M.1, Autor           
Welzel, U.1, Autor           
Mittemeijer, E. J.1, 2, Autor           
Affiliations:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              
2Universität Stuttgart, Institut für Materialwissenschaft, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Intelligente Systeme; Abt. Mittemeijer;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2011
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 579761
DOI: 10.1016/j.tsf.2011.07.070
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Thin Solid Films
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 520 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 287 - 293 Identifikator: -