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  Simon Charles Moss

Schönfeld, B., & Wochner, P. (2011). Simon Charles Moss. Journal of Applied Crystallography, 44, 887-888. doi:10.1107/S0021889811019091.

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基本情報

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-4C7F-D 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-4C80-7
資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Schönfeld, Bernd1, 著者
Wochner, Peter2, 著者           
所属:
1ETH Zürich, Metal Physics and Technology, ou_persistent22              
2Dept. Metastable and Low-Dimensional Materials, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497645              

内容説明

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キーワード: MPI für Intelligente Systeme; Abt. Dosch/Rühle;
 要旨: -

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2011-08
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり（内部）
 識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 571966
DOI: 10.1107/S0021889811019091
 学位: -

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訴訟

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Project information

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出版物 1

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出版物名: Journal of Applied Crystallography
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 44 通巻号: - 開始・終了ページ: 887 - 888 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -