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  The MRI-model in sputter depth profiling: capabilities, limitations and recent progress.

Hofmann, S., & Wang, J. Y. (2006). The MRI-model in sputter depth profiling: capabilities, limitations and recent progress. Journal of Surface Analysis, 13, 142-147.

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基本情報

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資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Hofmann, S.1, 著者           
Wang, J. Y.1, 著者           
所属:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer; Emeriti and Others;
 要旨: -

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2006
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: -
 識別子(DOI, ISBNなど): eDoc: 335125
 学位: -

関連イベント

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訴訟

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Project information

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出版物 1

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出版物名: Journal of Surface Analysis
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 13 通巻号: - 開始・終了ページ: 142 - 147 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): -