Epitaxy and bonding of Cu films on oxygen-terminated α-Al2O3(0001) surfaces

Oh, S. H.; Scheu, C.; Wagner, T.; Tchernychova, E.; Rühle, M.

Epitaxy and bonding of Cu films on oxygen-terminated α-Al₂O₃(0001) surfaces

Oh, S. H., Scheu, C., Wagner, T., Tchernychova, E., & Rühle, M. (2006). Epitaxy and bonding of Cu films on oxygen-terminated α-Al₂O₃(0001) surfaces. Acta Materialia, 54, 2685-2696.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-487A-2 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-487B-F

資料種別: 学術論文

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Oh, S. H., 著者
Scheu, C., 著者
Wagner, T.¹, 著者
Tchernychova, E., 著者
Rühle, M.², 著者

所属:
1Central Scientific Facility Thin Film Laboratory, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497640
2Emeriti and Others, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, DE, ou_1497650

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Emeriti and Others; Abt. Arzt; Stuttgart Center for Electron Microscopy (StEM);

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2006

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 318160

学位: -

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出版物 1

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出版物名: Acta Materialia

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 54 通巻号: - 開始・終了ページ: 2685 - 2696 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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