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  Electron energy-loss spectroscopy study of a multilayered SiOx and SiOxCy film prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Zhang, Z., Wagner, T., Sigle, W., & Schulz, A. (2006). Electron energy-loss spectroscopy study of a multilayered SiOx and SiOxCy film prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition. Journal of Materials Research, 21, 608-612.

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基本情報

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資料種別: 学術論文
その他のタイトル : J. Mater. Res.

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作成者

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 作成者:
Zhang, Z.1, 著者           
Wagner, T.2, 著者           
Sigle, W.1, 3, 著者           
Schulz, A.4, 著者
所属:
1Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497657              
2Central Scientific Facility Thin Film Laboratory, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497640              
3Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497669              
4Institut für Plasmaforschung, Universität Stuttgart, Stuttgart, Germany, ou_persistent22              

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Emeriti and Others; Stuttgart Center for Electron Microscopy (StEM); Abt. Arzt;
 要旨: -

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2006
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子(DOI, ISBNなど): eDoc: 292948
 学位: -

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訴訟

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Project information

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出版物 1

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出版物名: Journal of Materials Research
  出版物の別名 : J. Mater. Res.
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 21 通巻号: - 開始・終了ページ: 608 - 612 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): -