Oxidation and reduction of ultrathin nanocrystalline Ru films on silicon: model 
system for Ru-capped extreme ultraviolet lithography optics

He, Y.B; Goriachko, A.; Korte, C.; Farkas, A.; Mellau, G.; Dudin, P.; Gregoratti, L.; Barinov, A.; Kiskinova, M.; Stierle, A.; Kasper, N.; Bajt, S.; Over, H.

Oxidation and reduction of ultrathin nanocrystalline Ru films on silicon: model system for Ru-capped extreme ultraviolet lithography optics

He, Y., Goriachko, A., Korte, C., Farkas, A., Mellau, G., Dudin, P., Gregoratti, L., Barinov, A., Kiskinova, M., Stierle, A., Kasper, N., Bajt, S., & Over, H. (2007). Oxidation and reduction of ultrathin nanocrystalline Ru films on silicon: model system for Ru-capped extreme ultraviolet lithography optics. Journal of Physical Chemistry C, 111(24), 10988-10992.

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資料種別: 学術論文

その他のタイトル : J. Phys. Chem. C

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He, Y.B¹, 著者
Goriachko, A.², 著者
Korte, C.², 著者
Farkas, A.², 著者
Mellau, G.², 著者
Dudin, P.², 著者
Gregoratti, L.², 著者
Barinov, A.², 著者
Kiskinova, M.², 著者
Stierle, A.³, 著者
Kasper, N.¹, 著者
Bajt, S.², 著者
Over, H.², 著者

所属:
1Dept. Metastable and Low-Dimensional Materials, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497645
2Department of Physical Chemistry, Justus-Liebig-University, Heinrich-Buff-Ring, 35392 Giessen, Germany; Sincrotrone Trieste, Area Science Park, 34012 Basovizza-Trieste, Italy; Lawrence Livermore Laboratory, 700 East Avenue, Livermore, California 94550, USA, ou_persistent22
3Former Central Scientific Facility ANKA Synchroton Beamline, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497651

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Dosch;

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2007-05-11

出版の状態: 出版

ページ: -

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目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 333648

学位: -

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出版物名: Journal of Physical Chemistry C

出版物の別名 : J. Phys. Chem. C

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 111 (24) 通巻号: - 開始・終了ページ: 10988 - 10992 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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