Controlled fabrication of Cr/Si and Cr/SiGe tubes tethered to insulator 
substrates

Cavallo, F.; Sigle, W.; Schmidt, O. G.

Controlled fabrication of Cr/Si and Cr/SiGe tubes tethered to insulator substrates

Cavallo, F., Sigle, W., & Schmidt, O. G. (2008). Controlled fabrication of Cr/Si and Cr/SiGe tubes tethered to insulator substrates. Journal of Applied Physics, 103:.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-4065-3 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-4066-1

資料種別: 学術論文

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Cavallo, F.¹, 著者
Sigle, W.^{2, 3}, 著者
Schmidt, O. G.⁴, 著者

所属:
1Max Planck Society, ou_persistent13
2Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497657
3Stuttgart Center for Electron Microscopy, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497669
4Institute for Integrative Nanosciences, IFW Dresden, Helmholtzstrasse 20, D-01069 Dresden, ou_persistent22

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キーワード: MPI für Metallforschung; MPI für Festkörperforschung; Stuttgart Center for Electron Microscopy (StEM);

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2008

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 367438

学位: -

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出版物名: Journal of Applied Physics

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 103 通巻号: 116103 開始・終了ページ: - 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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