Chemical bath deposition of thin TiO2-anatase films for dielectric applications

Zhou, L.; Hoffmann, R. C.; Zhao, Z.; Bill, J.; Aldinger, F.

doi:10.1016/j.tsf.2008.02.042

Chemical bath deposition of thin TiO₂-anatase films for dielectric applications

Zhou, L., Hoffmann, R. C., Zhao, Z., Bill, J., & Aldinger, F. (2008). Chemical bath deposition of thin TiO₂-anatase films for dielectric applications. Thin Solid Films, 516, 7661-7666. doi:10.1016/j.tsf.2008.02.042.

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資料種別: 学術論文

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Zhou, L.¹, 著者
Hoffmann, R. C.¹, 著者
Zhao, Z.², 著者
Bill, J.³, 著者
Aldinger, F.^{1, 3}, 著者

所属:
1Former Dept. Materials Synthesis and Microstructure Design, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497654
2Institut für Nichtmetallische Anorganische Materialien, Universtiät Stuttgart, Pulvermetallurgisches Laboratorium, Heisenbergstraße 3, 70569 Stuttgart, Germany; Department of Inorganic Chemistry, Arrhenius Laboratory, Stockholm University, 10691 Stockholm, Sweden, ou_persistent22
3Universität Stuttgart, Institut für Nichtmetallische Anorganische Materialien, ou_persistent22

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Emeriti and Others; Abt. Aldinger;

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2008-03-05

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 374296
DOI: 10.1016/j.tsf.2008.02.042

学位: -

訴訟

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出版物 1

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出版物名: Thin Solid Films

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 516 通巻号: - 開始・終了ページ: 7661 - 7666 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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