A tool for X-ray diffraction analysis of thin layers on substrates: Substrate 
peak removal method

Kamminga, J.-D.; Delhez, R.; de Keijser, T. H.; Mittemeijer, E. J.

A tool for X-ray diffraction analysis of thin layers on substrates: Substrate peak removal method

Kamminga, J.-D., Delhez, R., de Keijser, T. H., & Mittemeijer, E. J. (2000). A tool for X-ray diffraction analysis of thin layers on substrates: Substrate peak removal method. Journal of Applied Crystallography, 33, 108-111.

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資料種別: 学術論文

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Kamminga, J.-D., 著者
Delhez, R., 著者
de Keijser, T. H., 著者
Mittemeijer, E. J.^{1, 2}, 著者

所属:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644
2Universität Stuttgart, Institut für Materialwissenschaft, ou_persistent22

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer;

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2000

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 200657

学位: -

訴訟

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出版物 1

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出版物名: Journal of Applied Crystallography

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 33 通巻号: - 開始・終了ページ: 108 - 111 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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