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  The role of delocalized nitrogen in determining the local atomic arrangement and mechanical properties of amorphous carbon nitride thin films

Holloway, B. C., Kraft, O., Shuh, D. K., Nix, W. D., Kelly, M., Pianetta, P., & Hagström, S. (2000). The role of delocalized nitrogen in determining the local atomic arrangement and mechanical properties of amorphous carbon nitride thin films. Journal of Vacuum Science and Technology A, 18, 2964-2971.

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基本情報

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資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Holloway, B. C., 著者
Kraft, O.1, 著者           
Shuh, D. K., 著者
Nix, W. D., 著者
Kelly, M., 著者
Pianetta, P., 著者
Hagström, S., 著者
所属:
1Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655              

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Arzt;
 要旨: -

資料詳細

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言語:
 日付: 2000
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子(DOI, ISBNなど): eDoc: 199002
 学位: -

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出版物 1

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出版物名: Journal of Vacuum Science and Technology A
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 18 通巻号: - 開始・終了ページ: 2964 - 2971 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): -