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  Morphology and microstructure of the Ar+ion sputtered (0001)α-Al2O3 surface

Akatsu, T. C., Scheu, C., Wagner, T., Gemming, T., Hosoda, N., Suga, T., & Rühle, M. (2000). Morphology and microstructure of the Ar+ion sputtered (0001)α-Al2O3 surface. Applied Surface Science, 165, 159-165.

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基本情報

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資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Akatsu, T. C., 著者
Scheu, C.1, 著者           
Wagner, T.2, 著者           
Gemming, T.1, 著者           
Hosoda, N.3, 著者           
Suga, T., 著者
Rühle, M.1, 著者           
所属:
1Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497657              
2Central Scientific Facility Thin Film Laboratory, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497640              
3Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655              

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Rühle; Abt. Arzt; ZWE Dünnschichtlabor;
 要旨: -

資料詳細

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言語:
 日付: 2000
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: -
 識別子(DOI, ISBNなど): eDoc: 42962
 学位: -

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訴訟

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Project information

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出版物 1

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出版物名: Applied Surface Science
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 165 通巻号: - 開始・終了ページ: 159 - 165 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): -