Diffusion of 195Au in amorphous Si3N4 and Si4N3

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Diffusion of ¹⁹⁵Au in amorphous Si₃N₄ and Si₄N₃

Voss, T., Matics, S., Strohm, A., Frank, W., & Bilger, G. (2001). Diffusion of ¹⁹⁵Au in amorphous Si₃N₄ and Si₄N₃. Physica B, 308, 431-433.

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取り下げ日: 2020-03-27

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作成者:
Voss, T.¹
Matics, S.¹
Strohm, A.¹
Frank, W.²
Bilger, G.³

所属:
1Dept. Theory of Inhomogeneous Condensed Matter, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497643
2Dept. Metastable and Low-Dimensional Materials, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497645
3Univ Stuttgart, Inst Theoret & Angew Phys, D-70550 Stuttgart,; Germany; Univ Stuttgart, Inst Theoret & Angew Phys, D-70550 Stuttgart, Germany; Univ Stuttgart, Inst Phys Elekt, D-70550 Stuttgart, Germany; CERN, CH-1121 Geneva, Switzerland, ou_persistent22

日付: 出版: 2001-12

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バージョンID: item_1573999_1

登録状況: 取り下げ

Name of Context: Import Context of the Max Planck Institute for Intelligent Systems, 所属:: Max Planck Institute for Intelligent Systems

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