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  Summary of ISO/TC 201 Technical Report: ISO/TR 15969:2000 - Surface chemical analysis - Depth profiling - Measurement of sputtered depth

Hofmann, S. (2002). Summary of ISO/TC 201 Technical Report: ISO/TR 15969:2000 - Surface chemical analysis - Depth profiling - Measurement of sputtered depth. Surface and Interface Analysis, 33(5), 453-454.

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基本情報

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3150-C 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3151-A
資料種別: 学術論文
その他のタイトル : Surf. Interface Anal.

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作成者

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 作成者:
Hofmann, S.1, 著者           
所属:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer; surface analysis; sputter depth profiling; crater depth; sputtering rate
 要旨: -

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2002-05
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 6823
ISI: 000175780000013
 学位: -

関連イベント

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訴訟

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Project information

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出版物 1

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出版物名: Surface and Interface Analysis
  出版物の別名 : Surf. Interface Anal.
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 33 (5) 通巻号: - 開始・終了ページ: 453 - 454 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 0142-2421