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  High spatial resolution grain orientation and strain mapping in thin films using polychromatic submicron X-ray diffraction.

Tamura, N., MacDowell, A. A., Celestre, R. S., Padmore, H. A., Valek, B., Bravman, J. C., et al. (2002). High spatial resolution grain orientation and strain mapping in thin films using polychromatic submicron X-ray diffraction. Applied Physics Letters, 80(20), 3724-3726.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-310A-C Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-310B-A
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Tamura, N., Autor
MacDowell, A. A., Autor
Celestre, R. S., Autor
Padmore, H. A., Autor
Valek, B., Autor
Bravman, J. C., Autor
Spolenak, R.1, Autor           
Brown, W. L., Autor
Marieb, T., Autor
Fujimoto, H., Autor
Batterman, B. W., Autor
Patel, J. R., Autor
Affiliations:
1Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Arzt;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2002-05-20
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 55944
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Applied Physics Letters
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 80 (20) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 3724 - 3726 Identifikator: -