Structure and photoluminescence features of nanocrystalline Si/SiO2 films 
produced by plasma chemical vapor deposition and post-treatment

Wu, X. C.; Ossadnik, C.; Eggs, C.; Veprek, S.; Phillipp, F.

Structure and photoluminescence features of nanocrystalline Si/SiO₂ films produced by plasma chemical vapor deposition and post-treatment

Wu, X. C., Ossadnik, C., Eggs, C., Veprek, S., & Phillipp, F. (2002). Structure and photoluminescence features of nanocrystalline Si/SiO₂ films produced by plasma chemical vapor deposition and post-treatment. Journal of Vacuum Science & Technology B, 20(4), 1368-1378.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-3089-5 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-308B-1

資料種別: 学術論文

その他のタイトル : J. Vac. Sci. Technol. B

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Wu, X. C.¹, 著者
Ossadnik, C.¹, 著者
Eggs, C.¹, 著者
Veprek, S.¹, 著者
Phillipp, F.², 著者

所属:
1Tech Univ Munich, Inst Chem Inorgan Mat, Lichtenbergstr 4, D-; 85747 Garching, Germany;, ou_persistent22
2Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, DE, ou_1497657

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Rühle; ZWE Hochspannungs-Mikroskopie; 72-ru_2002;

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2002-07

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 6728
ISI: 000177510500016

学位: -

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出版物名: Journal of Vacuum Science & Technology B

出版物の別名 : J. Vac. Sci. Technol. B

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 20 (4) 通巻号: - 開始・終了ページ: 1368 - 1378 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 1071-1023

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