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  Growth of electromigration-induced hillocks in Al interconnects

Nucci, J. A., Straub, A., Bischoff, E., Arzt, E., & Volkert, C. A. (2002). Growth of electromigration-induced hillocks in Al interconnects. Journal of Materials Research, 17(10), 2727-2735.

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基本情報

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資料種別: 学術論文
その他のタイトル : J. Mater. Res.

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41-ar_2002.pdf (要旨), 57KB
 
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41-ar_2002.pdf
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制限付き (Max Planck Institute for Intelligent Systems, MSMT; )
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application/pdf
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著作権情報:
eDoc_access: INSTITUT
CCライセンス:
-

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作成者

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 作成者:
Nucci, J. A.1, 著者           
Straub, A.1, 著者           
Bischoff, E.2, 3, 著者           
Arzt, E.1, 4, 著者           
Volkert, C. A.1, 著者           
所属:
1Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655              
2Former Central Scientific Facility Metallography, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497652              
3Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, DE, ou_1497657              
4Universität Stuttgart, Institut für Metallkunde, ou_persistent22              

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Arzt; Abt. Rühle; ZWE Metallographie; 41-ar_2002;
 要旨: -

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2002-10
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子(DOI, ISBNなど): eDoc: 6693
ISI: 000178351400035
 学位: -

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訴訟

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Project information

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出版物 1

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出版物名: Journal of Materials Research
  出版物の別名 : J. Mater. Res.
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 17 (10) 通巻号: - 開始・終了ページ: 2727 - 2735 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): ISSN: 0884-2914