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  Chemical reactions and morphological stability at the Cu/Al2O3 interface

Scheu, C., Klein, S., Tomsia, A. P., & Rühle, M. (2002). Chemical reactions and morphological stability at the Cu/Al2O3 interface. Journal of Microscopy-Oxford, 208, 11-17.

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Basisdaten

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Genre: Zeitschriftenartikel
Alternativer Titel : J. Microsc.-Oxf.

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Scheu, C.1, Autor           
Klein, S.1, Autor           
Tomsia, A. P.1, Autor           
Rühle, M.1, Autor           
Affiliations:
1Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497657              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Rühle; 62-ru_2002; Cu/Al2O3; diffusion bonding; interfaces; reaction phases; TEM
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2002-10
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 6690
ISI: 000178482900003
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Microscopy-Oxford
  Alternativer Titel : J. Microsc.-Oxf.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 208 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 11 - 17 Identifikator: ISSN: 0022-2720