Sputter depth profiling in AES and XPS

Wagner, T.; Wang, J. Y.; Hofmann, S.

Sputter depth profiling in AES and XPS

Wagner, T., Wang, J. Y., & Hofmann, S. (2003). Sputter depth profiling in AES and XPS. In D., Briggs, & J., Grant (Eds.), Surface Analysis by Auger and X-Ray Photoelectron Spectroscopy (pp. 619-649). Chichester: IM Publications.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2DDD-D 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2DDE-B

資料種別: 書籍の一部

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作成者:
Wagner, T.¹, 著者
Wang, J. Y.², 著者
Hofmann, S.², 著者

所属:
1Central Scientific Facility Thin Film Laboratory, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497640
2Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Arzt; Abt. Mittemeijer; ZWE Dünnschichtlabor; sputter depth profiling; AES; XPS; electron spectroscopy; MRI model

要旨: -

資料詳細

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言語: eng - English

日付: 出版: 2003

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: -

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 51200

学位: -

訴訟

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出版物 1

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出版物名: Surface Analysis by Auger and X-Ray Photoelectron Spectroscopy

種別: 書籍

著者・編者:
Briggs, D., 編集者
Grant, J., 編集者

所属:
-

出版社, 出版地: Chichester : IM Publications

ページ: - 巻号: - 通巻号: - 開始・終了ページ: 619 - 649 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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