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  Diffusion corrected simultaneous multilayer growth model

Fu, Q., & Wagner, T. (2003). Diffusion corrected simultaneous multilayer growth model. Physical Review Letter, 90: 1061054.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2DD2-3 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2DD3-1
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Fu, Q.1, Autor           
Wagner, T.2, Autor           
Affiliations:
1Former Dept. Materials Synthesis and Microstructure Design, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497654              
2Central Scientific Facility Thin Film Laboratory, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497640              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Arzt; ZWE Dünnschichtlabor; growth model; AES; thin film; rate equations
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2003
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 51192
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Physical Review Letter
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 90 Artikelnummer: 1061054 Start- / Endseite: - Identifikator: -