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  Growth and microstructural characterization of GaN films grown by laser induced reactive epitaxy

Zhou, H., Rupp, B., Phillipp, F., Henn, B., Gross, M., Rühm, A., & Schröder, H. (2003). Growth and microstructural characterization of GaN films grown by laser induced reactive epitaxy. Journal of Applied Physics, 93, 1933-1940.

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基本情報

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資料種別: 学術論文
その他のタイトル : J. Appl. Phys.

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作成者

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 作成者:
Zhou, H.1, 著者
Rupp, B.2, 著者
Phillipp, F.3, 著者           
Henn, B.2, 著者
Gross, M.2, 著者
Rühm, A.4, 著者           
Schröder, H.4, 著者           
所属:
1Max Planck Society, ou_persistent13              
2DLR, Institut für Technische Physik, Stuttgart, Germany, ou_persistent22              
3Former Dept. Microstructure Interfaces, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, DE, ou_1497657              
4Dept. Metastable and Low-Dimensional Materials, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497645              

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Rühle; ZWE Hochspannungs-Mikroskopie;
 要旨: -

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2003
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子(DOI, ISBNなど): eDoc: 49869
 学位: -

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出版物 1

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出版物名: Journal of Applied Physics
  出版物の別名 : J. Appl. Phys.
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 93 通巻号: - 開始・終了ページ: 1933 - 1940 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): -