AES depth profiling of thermally treated Al/Si thin-film structures

Zalar, A.; Wang, J.Y.; Zhao, Y.H.; Mittemeijer, E.J.; Panjan, P.

AES depth profiling of thermally treated Al/Si thin-film structures

Zalar, A., Wang, J., Zhao, Y., Mittemeijer, E., & Panjan, P. (2003). AES depth profiling of thermally treated Al/Si thin-film structures. Vacuum, 71, 11-17.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2D73-8 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-2D74-6

資料種別: 学術論文

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eDoc_access: INSTITUT

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Zalar, A., 著者
Wang, J.Y.¹, 著者
Zhao, Y.H.¹, 著者
Mittemeijer, E.J.^{1, 2}, 著者
Panjan, P., 著者

所属:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644
2Universität Stuttgart, Institut für Materialwissenschaft, ou_persistent22

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer;

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2003

出版の状態: 出版

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出版情報: -

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査読: -

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 47144

学位: -

訴訟

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出版物 1

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出版物名: Vacuum

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 71 通巻号: - 開始・終了ページ: 11 - 17 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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