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  Sputter-depth profiling for thin-film analysis

Hofmann, S. (2004). Sputter-depth profiling for thin-film analysis. Philosophical of the Transactions Royal Society of London A, 362, 55-75.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-29DD-B Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0010-29DE-9
Genre: Zeitschriftenartikel

Dateien

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:
348.pdf (Zusammenfassung), 6KB
 
Datei-Permalink:
-
Name:
348.pdf
Beschreibung:
-
OA-Status:
Sichtbarkeit:
Eingeschränkt (Max Planck Institute for Intelligent Systems, MSMT; )
MIME-Typ / Prüfsumme:
application/pdf
Technische Metadaten:
Copyright Datum:
-
Copyright Info:
eDoc_access: INSTITUT
Lizenz:
-

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Hofmann, S.1, Autor           
Affiliations:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Mittemeijer;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2004
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 124094
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Philosophical of the Transactions Royal Society of London A
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 362 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 55 - 75 Identifikator: -