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  X-ray microdiffraction: Local stress distribution in polycrystalline and epitaxial thin films

Phillips, M. A., Spolenak, R., Tamura, N., Brown, W. L., MacDowell, A. A., Celestre, R. C., et al. (2004). X-ray microdiffraction: Local stress distribution in polycrystalline and epitaxial thin films. Microelectronic Engineering, 75, 117-126.

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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Phillips, M. A.1, Autor           
Spolenak, R.1, Autor           
Tamura, N.2, Autor
Brown, W. L.2, Autor
MacDowell, A. A.2, Autor
Celestre, R. C.2, Autor
Padmore, H. A.2, Autor
Batterman, B. W.2, Autor
Arzt, E.1, 3, Autor           
Patel, J. R.2, Autor
Affiliations:
1Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655              
2Advanced Light Source, LBNL, 1 Cyclotron Road, Berkeley, CA 94720, USA; Department of Materials Science and Engineering, Lehigh University, Bethlehem, PA 18015, USA; SSRL/SLAC, Stanford University, P.O. Box 43459, Stanford, CA 94309, USA Department of Materials Science and Engineering, Stanford University, Stanford, CA 94305, USA, ou_persistent22              
3Universität Stuttgart, Institut für Metallkunde, ou_persistent22              

Inhalt

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Schlagwörter: MPI für Metallforschung; Abt. Arzt;
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2004-02-26
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 125007
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Microelectronic Engineering
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 75 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 117 - 126 Identifikator: -