Pipe-diffusion ripening of Si precipitates in Al-0.5% Cu-1%Si thin films

Legros, M.; Kaouache, B.; Gergaud, P.; Thomas, O.; Dehm, G.; Balk, T. J.; Arzt, E.

Pipe-diffusion ripening of Si precipitates in Al-0.5% Cu-1%Si thin films

Legros, M., Kaouache, B., Gergaud, P., Thomas, O., Dehm, G., Balk, T. J., & Arzt, E. (2005). Pipe-diffusion ripening of Si precipitates in Al-0.5% Cu-1%Si thin films. Philosophical Magazine, 85, 3541-3552.

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資料種別: 学術論文

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Legros, M.¹, 著者
Kaouache, B.¹, 著者
Gergaud, P.¹, 著者
Thomas, O.¹, 著者
Dehm, G.², 著者
Balk, T. J.², 著者
Arzt, E.^{2, 3}, 著者

所属:
1CNRS, CEMES, Toulouse, F-31055 France; ENSAM, LPMM, Metz, F-57078 France; Univ. Stuttgart, Institut für Metallkunde, Stuttgart; Univ. Kentucky, Dept. Chem. & Mat. Engn.,Lexington, KY 40506 USA, ou_persistent22
2Former Dept. Micro/Nanomechanics of Thin Films and Biological Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497655
3Universität Stuttgart, Institut für Metallkunde, ou_persistent22

内容説明

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キーワード: MPI für Metallforschung; Abt. Arzt;

要旨: -

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言語: eng - English

日付: 出版: 2005

出版の状態: 出版

ページ: -

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目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 242444

学位: -

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出版物名: Philosophical Magazine

種別: 学術雑誌

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 85 通巻号: - 開始・終了ページ: 3541 - 3552 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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