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  Hafnium oxide thin films deposited by reactive middle-frequency dual-magnetron sputtering

Pervak, V., Krausz, F., & Apolonskiy, A. (2007). Hafnium oxide thin films deposited by reactive middle-frequency dual-magnetron sputtering. Thin Solid Films, 515(20-21), 7984-7989. doi:10.1016/j.tsf.2007.03.180.

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3433.pdf (Verlagsversion), 787KB
 
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3433.pdf
Beschreibung:
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OA-Status:
Sichtbarkeit:
Eingeschränkt (Max Planck Institute of Quantum Optics, MGQO; )
MIME-Typ / Prüfsumme:
application/pdf
Technische Metadaten:
Copyright Datum:
-
Copyright Info:
eDoc_access: INSTITUT
Lizenz:
-

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Pervak, Volodymyr1, Autor           
Krausz, Ferenc1, Autor           
Apolonskiy, Alexander1, Autor           
Affiliations:
1Laboratory for Attosecond Physics, Max Planck Institute of Quantum Optics, Max Planck Society, ou_1445564              

Inhalt

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Schlagwörter: deposition process; optical coatings; hafnium
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2007-07-31
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Thin Solid Films
  Alternativer Titel : Thin Solid Films
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
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Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 515 (20-21) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 7984 - 7989 Identifikator: -