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  Near-Field Lithography by Two-Photon-Induced Photocleavage of Organic Monolayers

Alvarez, M., Best, A., Unger, A., Alonso, J. M., del Campo, A., Schmelzeisen, M., Koynov, K., & Kreiter, M. (2010). Near-Field Lithography by Two-Photon-Induced Photocleavage of Organic Monolayers. Advanced Functional Materials, 20(24), 4265-4272.

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基本情報

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-7432-8 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-000F-7433-6
資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Alvarez, M.1, 著者           
Best, A.1, 著者           
Unger, A.1, 著者           
Alonso, J. M., 著者
del Campo, Aranzazu1, 著者           
Schmelzeisen, M.1, 著者           
Koynov, Kaloian1, 著者           
Kreiter, Max1, 著者           
所属:
1MPI for Polymer Research, Max Planck Society, ou_1309545              

内容説明

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資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2010
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: -
 識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 528706
その他: P-10-343
 学位: -

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訴訟

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Project information

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出版物 1

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出版物名: Advanced Functional Materials
  出版物の別名 : Adv. Funct. Mater.
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 20 (24) 通巻号: - 開始・終了ページ: 4265 - 4272 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -